另外，当湿度过高时，粘在硅芯片表面的灰尘会被化学吸附在表面，难以清理。相对湿度越高，去除附着越困难。而当相对湿度低于30％时，由于静电力的作用，颗粒容易吸附在表面，大量半导体器件容易击穿。
净化工程压力调节
对于大多数洁净空间来说，要保持内压（静压）高于外压（静压），以防止外部污染的侵入。压差一般应按照以下原则维持:
对于紊流洁净室，由于主要依靠空气的稀释作用来降低室内污染程度，所以主要采用换气次数的概念，而不是直接采用速度的概念，但对室内空气流动的速度也有以下要求;
1.送风口出口处的气流速度不宜过大。与简单空调房相比，速度衰减更快，扩散角更大。
2.吹过水平面的气流速度（如车损时的回流速度）不宜过大，以免将表面颗粒吹回气流中，造成二次污染，此速度不宜干燥0.2m/s。
对于平流洁净室俗称层流洁净室，因为它主要靠“活塞挤压作用的气流来排除污染”，所以截面上的速度是一个非常重要的指标。以往全部参考美国20gB标准，采用0.45m/s。但人们也明白，这样大的风速所需要的通风非常大，为了节约能源，也都在探索降低风速的可行性。
这是对乱流洁净室的比紊流、更地描述。湍流度主要由雷诺数决定，即流的量决定。然而，如果使用的过滤器作为自上而下的空气供应，所有这些结果的可以产生即使在非常低的流量，因为它是一个突然和不均匀的流动。因此，在这种情况下，不仅存在紊流引起的流层之间的混合，整个腔室内还存在较大的回流和涡流混合。
净化工程-单向流动洁净室原理
以上信息由专业从事普通工作台图片的雨诺净化于2024/5/24 6:41:06发布
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