晶格有序度的均匀性：
这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题，具体见下。
主要分类有两个大种类：
蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体则包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等
一、对于蒸发镀膜：
一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。
厚度均匀性主要取决于：
1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3、蒸发功率，速率
4、真空度
5、镀膜时间，厚度大小。
组分均匀性：
蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。
晶向均匀性：
1、晶格匹配度
2、基片温度
3、蒸发速率
一代光学镀膜原理
抗磨损膜始于20世纪70年代初，当时认为玻璃镜片不易磨制是因为其硬度高，而有机镜片则太软所以容易磨损。镀膜SOCKET在Socket表面形成一层纳米镀膜,可有效改善同BGA等半导体器件的接触性能,降低磨损,延长接触寿命。因此将石英材料于真空条件下镀在有机镜片表面，形成一层非常硬的抗磨损膜，但由于其热胀系数与片基材料的不匹配，很容易脱膜和膜层脆裂，因此抗磨损效果不理想。
二代光学镀膜原理
20世纪80年代以后，研究人员从理论上发现磨损产生的机理不仅仅与硬度相关，膜层材料具有“硬度/形变”的双重特性，即有些材料的硬度较高，但变形较小，而有些材料硬度较低，但变形较大。BOPET、BOPA薄膜基材镀铝前不需进行表面处理，可直接进行蒸镀。第二代的抗磨损膜技术就是通过浸泡工艺法在有机镜片的表面镀上一种硬度高且不易脆裂的材料。
真空镀膜工艺：为使光学零件能满足在光电仪器及元器件中所需的光学，电学，物理性能，而可以在其表面上镀一层，多层乃至上百层的薄膜。例如增透膜、反射膜、分光膜、滤光膜、电热膜、保护膜、偏振膜等。光学零件的镀膜主要分物理和化学镀膜两类。MBE分子束外沿镀膜技术，已经比较好的解决了如上所属的问题，但是基本用于实验研究，工业生产上比较常用的一体式镀膜机主要以离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜为主。由于真空技术和膜系监控技术的发展，较易获得性能稳定，结构复杂的膜层。故在生产中多以真空镀膜法为主。
按照薄膜的使用性能分类，常见的膜层有：增透膜，反射膜，分光膜，滤光膜，电热膜，导电膜及保护膜等。按照薄膜的结构可以分为单层膜，双层膜及多层膜等。
以上信息由专业从事派瑞林绝缘镀膜价格的拉奇纳米镀膜于2024/5/20 8:07:04发布
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