1.派瑞林真空镀膜是一种在高真空下加热金属或非金属材料，使其在被镀膜件(金属、半导体或绝缘体)表面蒸发凝结形成薄膜的方法。如真空镀铝、真空镀铬等。
2.光学镀膜是指在光学零件表面涂覆一层(或多层)金属(或电介质)薄膜的工艺过程。光学零件表面镀膜的目的是为了满足减少或增加光反射、分束、分色、滤光和偏振的要求。常用的涂膜方法有真空涂膜(物理涂膜之一)和化学涂膜。
表面科学是在固体物理等许多科学基础上发展起来的新科学，其研究对象是各种各样的表面。真空镀膜技术为制造各种各样的清洁表面提供了手段。特别是20世纪70年代在真空镀膜基础上发展起来的分子束外延技术，用他不值可以特备可控制的超薄薄膜、原子级平整度的表面、上百层的叠加膜，而且还可以控制薄膜的成分和亚比。这些薄膜的制备均为科学的研究和发展提供了充分的条件。
真空搜膜技术在其他科学领域中的应用亦很广泛。例如，电子显微镜的标本必须经过真空镀膜处理才能观察﹔激光器需要镀上精密控制的光学膜层才能使用;太阳能利用也与真空镀膜技术息息相关。
考夫曼离子源是应用较早的离子源。属于栅格式离子源。首先由阴极在离子源内腔产生等离子体，让后由两层或三层阳极栅格将离子从等离子腔体中抽取出来。这种离子源产生的离子方向性强，离子能量带宽集中，可广泛应用于真空镀膜中。缺点是阴极（往往是钨丝）在反应气体中很快就烧掉了，另外就是离子流量有极限，对需要大离子流量的用户可能不适和。
霍尔离子源是阳极在一个强轴向磁场的协作下将工艺气体等离子化。这个轴向磁场的强不平衡性将气体离子分离并形成离子束。由于轴向磁场的作用太强，霍尔离子源离子束需要补充电子以中和离子流。常见的中和源就是钨丝（阴极）。
以上信息由专业从事派瑞林涂覆的菱威纳米于2024/5/5 7:21:31发布
转载请注明来源：http://www.zhizhuke.cn/qyzx/lingwei2019-2747054860.html
