BCM：车身控制器，英语：body control module，简称BCM。
CBCU（Central Body control uint 中央车身控制器），我的认知是跟BCM同一零件的不同叫法。
ECU（Electronic Control Unit，电子控制单元，又称“行车电脑”）, 我的认知是发动机控制器。
作者：质海无涯
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来源：知乎
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EBL(electron-blocking layer)即电子阻挡层，能够控制LED中电子的流向(阻碍反向漏电流)，提高发光效率。如概述图所示介于MQW(多阱结构)和CBL(电流阻挡层)之间。
电子束曝光系统, EBL，又称电子束暴光系统)是一种利用电子束在工件面上扫描直接产生图形的装置。由于SEM、STEM及FIB的工作方式与电子束曝光机十分相近，美国JC Nabity Systems公司是早研发了基于改造商品S或FIB的电子束曝光装置纳米图形发生系统，又称电子束微影系统)。电子束曝光技术具有可直接刻画精细图案的优点，且高能电子的波长短(< 1 nm)，可避免绕射效应的困扰，是实验室制作微小纳米电子元件佳的选择。相对于购买昂贵的电子束曝光机台，以既有的SEM等为基础，外加电子束控制系统，透过电脑界面控制电子显微镜中电子束之矢量扫描，以进行直接刻画图案，在造价方面可大幅节省，且兼具原SEM 的观测功能，在功能与价格方面均具有优势。由于其具有高分辨率以及低成本等特点，在北美研究机构中，JC Nabity的NPGS是的配套于扫描电镜的电子束微影曝光系统，而且它的应用在世界各地越来越广泛。(NPGS突出优点是技术性且高)折叠
是电子束微影中常用的正阻剂，是由单体酸甲酯(methyl methacrylate, MMA)经聚合反应而成。用在电子阻剂的PMMA 通常分子量在数万至数十万之间，受电子束照射的区域PMMA 分子量将变成数百至数千，在显影时低分子量与高分子量PMMA 溶解度的对比非常大。
负阻剂方面，多半由聚合物的单体构成。在电子束曝照的过程中会产生聚合反应形成长链或交叉链结(crosslinking)聚合物，所产生的聚合物较不易被显影液溶解因而在显影后会留在基板表面形成微影图案。目前常用的负阻剂为化学倍增式阻剂(chemically amplified resist)，经电子束曝照后产生氢离子催化链结反应，具有高解析度、高感度，且抗蚀刻性高。
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