离子镀
在真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离,并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下,将蒸发物质或其反应物沉积在基片上的方法。根据离化方式的不同,常用的离子源有考夫曼离子源、射频离子源、霍尔离子源、冷阴极离子源、电子回旋离子源等。可将离子发生源与工作室分离,克服了溅射镀膜为了持续放弧而必须保持较高的工作气压的缺陷,高能离子对衬底和沉积薄膜表面的轰击保证了薄膜的附着力和质量,是一种结合了蒸发镀膜和溅射镀膜优势的PVD技术。
根据离化方式的不同,常用的离子源有考夫曼离子源、射频离子源、霍尔离子源、冷阴极离子源、电子回旋离子源等。
带正电荷的蒸发料离子,在阴极吸引下,随同离子一同冲向工件,当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时,则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。这就是离子镀的简单作用过程。PVD技术四个工艺步骤
(1)清洗工件:接通直流电源,气进行辉光放电为离子,离子轰击工件表面,工件表层粒子和脏物被轰溅抛出;
(2)镀料的气化:即通入交流电后,使镀料蒸发气化。
可见,多弧镀膜与磁控溅射法镀膜各有优劣,为了尽可能 地发挥它们各自的优越性,实现互补,将多弧技术与磁控技术合而为一的涂层机应运而生。在工艺上出现了多弧镀打底,然后利用磁控溅射法增厚涂层,后再利用多弧镀达到终稳定的表面涂层颜色的新方法。
大约在八十年代中后期,出现了热阴极电子枪蒸发离子镀、热阴极弧磁控等离子镀膜机,应用效果很好,使TiN 涂层刀具很快得到普及性应用。
以上信息由专业从事不锈钢镀钛报价的金常来于2024/5/19 10:38:13发布
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