PVD技术四个工艺步骤
(1)清洗工件:接通直流电源,气进行辉光放电为离子,离子轰击工件表面,工件表层粒子和脏物被轰溅抛出;
(2)镀料的气化:即通入交流电后,使镀料蒸发气化。
此外,多弧镀涂层颜色较为稳定,尤其是在做 TiN 涂层时,每一批次均容易得到相同稳定的金黄色,令磁控溅射法望尘莫及。多弧镀的不足之处是,在用传统的 DC 电源做低温涂层条件下,当涂层厚度达到0.3μm 时,沉积率与反射率接近,成膜变得非常困难。镀钛不仅能使工具丰富多彩,也是工具达到一定硬度的效果,采用PVD技术,使工具具有优异的性能。而且,薄膜表面开始变朦。多弧镀另一个不足之处是,由于金属是熔后蒸发,因此沉积颗粒较大,致密度低,耐磨性比磁控溅射法成膜差。与不同的气体发应形成一种薄膜涂层。今天所使用的大多数PVD方法是电弧和溅射沉积涂层。这两种过程需要在高度真空条件下进行。Ionbond 阴极电弧PVD涂层技术在20世纪70年代后期由前苏联发明,如今,绝大多数的刀模具涂层使用电弧沉积技术。
工艺温度:典型的PVD涂层加工温度在250℃— 450℃之间,但在有些情况下依据应用领域和涂层的质量,PVD涂层温度可低于70℃或高于600℃进行涂层。
以上信息由专业从事装饰不锈钢镀钛价格的金常来于2024/5/10 11:28:27发布
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