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分子泵使用中有哪些注意事项？2.一文了解分子泵在半导体行业的应用3.如何科学地获得超高真空？4.国际热核聚变试验堆（ITER）的真空结构5.一千多台样泵用于各项测试，仅选很优方案，揭秘新型分子泵测试方法；真空聚焦真空行业新媒体平台：涡轮分子泵应用于质谱系统分子泵应用于紧凑型质谱系统。
质谱分析是指与质谱分析相结合的一种核分析技术,用于实现同位素比值的测定.需要清洁无油的高真空环境,一般采用干泵配备涡轮分子泵实现高真空环境.质谱系统需要分子泵抽真空原因:1.电子加速运动的需要;2.电子正常工作的需要;3.加速管微波电场的需要(避免加速管中出现微波打火,必须抽到高真空). 中科院某大型科技工程项目,工程的主体建筑是三大:一台150MeV（1.5亿电子伏特）的电子直线、一台能在0.5秒内把电子束能量从150MeV提升到3.5GeV（35亿电子伏特）的量增强器，以及一台周长432米的3.5GeV电子储存环，
经过技术推荐，成功采购爱发科涡轮分子泵和干泵，涡轮分子泵抽速范围10至2700L/S,转速很高90,000rpm,极限真空很大1E-11mbar,对小分子气体具有更高的压缩比,实践证明涡轮分子泵运行时间可以达到100,000小时!分子泵提供复合轴承分子泵和五轴全磁浮分子泵二大系列满足不同应用,推荐搭配旋片泵和干泵共同使用.
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分子泵入口应装设防护网，以避免异物进入泵内损坏泵转子和定子叶片。抽气系统装有单独粗抽管路的涡轮分子泵抽气系统的操作方法与扩散泵抽气系统相似。在开始粗抽以前，高真空阀和粗抽阀是关着的，而前级管道阀是打开的。首先关闭前级阀，启动粗抽泵（兼前级泵），打开粗抽阀开始对真空室进行抽气。在真空室内的压力降到150~100Pa时关闭粗抽阀，打开前级管道阀，再启动涡轮分子泵（需先接通冷却系统）。
如果分子泵入口处装有液氮冷阱，则应在泵加速到额定转速后（一般需5~10min）加注液氮。1-涡轮分子泵；2-液氮冷阱；3-放气阀；4-电离规；5-热传导规；6-粗抽阀；7-机械泵；8-前级管路阀；9-高真空阀。图1 典型涡轮分子泵抽气系统粗抽系统的配置随真空室的容积大小而有所不同。对500L/s或更小的涡轮分子泵来说，可采用一台双级旋片泵；1000L/s以上的涡轮分子泵则采用以机械泵为前级泵的罗茨泵机组。
在压力为100到150Pa时关闭粗抽阀，把真空室切换到涡轮分子泵上。对某些泵，这样做会引起轻微而滞后的瞬时减速，但这对抽气并无影响。正如扩散泵抽气系统那样，涡轮分子泵系统中的很主要的物质是水蒸气，其臭气时间将受液氮冷阱抽速的支配。如果不用液氮冷阱，那么这个系统抽除水蒸气的速度就会比同样抽速的无冷阱扩散泵略慢一些。
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半导体产业链IC制造行业属于典型的技术密集型行业，产品技术含量非常高，同时对配套产业要求较高，其中就包括真空设备配套产业。真空设备（真空阀、真空泵、真空腔体及管道等）是半导体各工艺制程环节必备的通用设备，广泛应用于芯片生产制造过程。 半导体制造设备及工艺流程半导体器件的生产制造工艺极其复杂，需要在高纯度硅片上执行一系列精密的物理或者化学操作，例如掺入相应的其它元素、形成多种金属薄膜和绝缘膜、进行表面的刻蚀处理等。
这些复杂的生产制造工艺都需要在分子泵维持的高真空环境下进行，而且对真空系统和真空设备的洁净度也有着很高的要求。分子泵在半导体设备中的应用.在半导体生产制造工艺中，分子泵广泛应用于光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀设备、离子注入机等关键设备。光刻机光刻机是生产大规模集成电路的设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握，因此光刻机价格昂贵。
光刻机光刻过程必须在高真空环境中实现，原因是极紫外光很娇贵，在空气中容易损耗。同时，在光刻过程中，设备的动作时间误差以皮秒计，这对磁悬浮分子泵的振动值要求极高。（注：皮秒=兆分之一秒）薄膜沉积指在晶圆表面生成多种薄膜，这些薄膜可以是绝缘体、半导体或导体。它们由不同的材料组成，是使用多种工艺生长或沉积的。
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以上信息由专业从事爱发科二手泵UTM3001FW的潽拓光电于2024/5/15 13:09:50发布
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