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微流控光刻机介绍询问报价「顶旭」

发布者:顶旭 发布时间:2024-05-08 09:08:49

微流控光刻机介绍询问报价「顶旭」[顶旭60ca79e]内容:

热板

温度:0~300℃温度稳定性:±1℃功率:850W台面大小:200x200mm

公司团队拥有丰富的经验和技术积累,持续将专ye知识与创新思维相结合,为客户提供高品pin质的解决方案。我们将始终坚持以客户为中心,不断挑战自我,不断追求卓yue,通过专ye、创新和合作,为客户创造更大的价值,共同kai创微流控领域的美好未来。

SU8模具制备流程

1.备片

从化学品存放区取出清洁的硅片(确保硅片表面无尘)。

2.匀胶

1)打开匀胶机,将硅片放置在匀胶机托盘上,打开真空开关,确保硅片固定在托盘上不动;

2)将SU8光刻胶滴在硅片中间,根据光刻胶的厚度和制备要求设置匀胶机转速和时间。(举例说明:目标胶厚度50um,光刻胶型号:SU8-2075,1段500转8s,2段1800转30s)

3.前烘

1)将涂布好SU8光刻胶的硅片放置在热板上,进行预热烘烤,去除光刻胶中的挥发性有机溶ji,时间和温度根据光刻胶厚度进行调整。(举例说明:目标胶厚度50um ,设置温度65℃,烘烤15min,然后温度95度,烘烤15分钟)

4.曝光

1)将预热后的硅片放置在桌面光刻机托盘上。

2)使用相应的掩模(掩膜)放置在硅片上进行曝光,曝光时间和强度根据SU-8光刻胶的类型和厚度进行调整。(举例说明:目标胶厚度50um,设置曝光能量25mw/cm2,时间12s)

微流控芯片加工设备: 提供丰富多样的微流控芯片加工设备,涵盖SU8模具加工、PDMS芯片加工和玻璃芯片加工。可以帮助客户在自己的实验室内进行微流控芯片的快速制作,从而提高实验效率和灵活性。

SU8模具制备流程

1.后烘

将曝光后的硅片放置在热板上,进行后曝光烘烤,以确保光刻胶的交联反应完成。(举例说明:目标胶厚度50um,设置温度65℃,烘烤7min,然后温度95℃,烘烤3min)

2.显影

将硅片放入显影剂中,使未曝光部分的光刻胶溶解,形成模具的图案。(显影时间根据光刻胶厚度和显影剂浓度进行调整,此处显影时间20min)

3.清洗

将显影后的硅片用异丙chun溶剂进行清洗,去除多余的光刻胶。

4.检查

使用显微镜检查制备的SU-8模具,测试观察制备的微结构尺寸,确认图案的清晰度和质量。

顶旭(苏州)微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业,我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案

日常维护

1、定期清理平行曝光机的载台,防止它们因积尘或灰尘而影响加工。

2、保持曝光机的表面清洁,防止灰尘和杂质进入设备内部。

微流控芯片加工设备: 提供丰富多样的微流控芯片加工设备,涵盖SU8模具加工、PDMS芯片加工和玻璃芯片加工。可以帮助客户在自己的实验室内进行微流控芯片的快速制作,从而提高实验效率和灵活性。

以上信息由专业从事微流控光刻机介绍的顶旭于2024/5/8 9:08:49发布

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