真空镀膜机
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。真空镀膜机部件分析真空主体——真空腔根据加工产品要求的各异，真空腔的大小也不一样，目前应用1多的有直径1、3M、0、9M、1、5M、1、8M等，腔体由不锈钢'target=_blank>。并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。
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镀膜机操作程序
真空镀膜机操作程序具体操作时请参照该设备说明书和设备上仪表盘指针显示及各旋钮下的标注说明。
① 检查真空镀膜机各操作控制开关是否在'关'位置。
② 打开总电源开关，设备送电。
③ 低压阀拉出。开充气阀，听不到气流声后，启动升钟罩阀，钟罩升起。
④ 安装固定钨螺旋加热子。把PVDF薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位，保证无任何杂质污物。
⑤ 落下钟罩。
⑥ 启动抽真空机械泵。
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如何选择真空镀膜设备供应商
真空检测系统，目前基本都是用复合真空计，热偶规+电离规的组合，这个组合在遇到充入大量含有C元素的气体的工艺，电离规很容易毒化，造成电离规损坏，如果镀制含有大量C元素的气体的工艺，可以考虑，配置电容薄膜规。
真空电源，国产电源和进口电源的差距还是比较明显，当然价格也比较优惠，一台国产的20KW中频电源在8万左右，一台进口的中频电源在20万，进口电源的性能和可靠性，稳定性会更好，国产电源由于产地就在国内，可能在服务上要好于进口电源。
以上信息由专业从事真空镀膜厂家的艾明坷于2024/5/7 6:36:01发布
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