因为四氟化碳和四氟化1硅都是共价化合物,然而碳氟键的键能远远大于硅氟键的键能,键长也是前者短得多,所以四氟化碳的热稳定性更好。吸入四氟化碳的后果与浓度有关,包括头1痛、恶心、头昏眼花及心血1管系统的破坏(主要是心脏)。长时间接触会导致严重的心脏破坏。在900℃时,不与铜、镍、钨、钼反应,仅在碳弧温度下缓慢分解,微溶于水,在25℃及0.1Mpa下其溶解度为0.0015%(重量比),然而与可燃性气体燃烧时,会分解产生有毒氟化物。
四氟化碳(CF4)在电离后会产生含成分的刻蚀性气相等离子体,能够对各种有机表面实现刻蚀及有机物去除,在晶圆制造、线路板制造、太阳能电池板制造等行业中被广泛应用。以活性炭与氟为原料经氟化反应制备。在装有活性炭的反应炉中,缓缓通入高浓氟气,并通过加热器加热、供氟速率和反应炉冷却控制反应温度。四氟化碳是一种卤代烃,化学式CF4。它既可以被视为一种卤代烃、全氟化碳,也可以被视为一种无机化合物。零下198 °C时,四氟化碳具有单斜的结构,晶格常数为a = 8.597, b= 4.433, c = 8.381 (.10-1 nm), β = 118.73° 。
储存注意事项:储存于阴凉、通风的不燃气体库房。远离火种、热源。库温不宜超过30℃。应与易(可)燃物、氧化剂分开存放,切忌混储。储区应备有泄漏应急处理设备。四氟化碳作为制冷剂是一种无色不可燃气体,能够保障液体运输的安全性。在临床医学中,四氟化碳还是一种高浓度的醉剂。由以上看出,四氟化碳的应用范围广泛,在下游电子产业等带动下,行业快速发展。是微电子工业中用量大的等离子蚀刻气体,高纯气高纯氧的混合气,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。
电子四氟化碳是目前半导体行业主要的等离子体蚀刻气体之一,在硅、二氧化硅、金属硅化物以及某些金属的蚀刻,以及低温制冷、电子器件表面清洗等方面被广泛应用。而电子特气系统为它保驾护航,保证四氟化碳(CF4)的纯度和安全稳定使用。高纯四氟化碳是纯度在99.999%以上的四氟化碳产品,是一种无色无味气体。高纯四氟化碳不可燃烧,在常温常压条件下化学性质稳定,在密闭容器中遇高热有危险,不溶于水,可溶于苯、等部分溶剂。四氟化碳作为制冷剂是一种无色不可燃气体,能够保障液体运输的安全性。在临床医学中,四氟化碳还是一种高浓度的醉剂。由以上看出,四氟化碳的应用范围广泛,在下游电子产业等带动下,行业快速发展。
以上信息由专业从事高浓度四氟化碳的安徽谱纯于2024/4/18 7:47:47发布
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